電鍍液的處理:難溶鹽沉淀法

難溶鹽沉淀法

此法是向鍍液中加入適當的沉淀劑，使之與鍍液中的有害雜質生成溶度積較小的難溶鹽沉淀，然后過濾除去。

難溶鹽沉淀法應用范圍較廣，它可以去除金屬雜質，也可以去除有害的陰離子。例如：在氰化物鍍液中，用硫化物去除鉛雜質；用氫氧化鈣或氫氧化鋇去除Na2C03：

Pb2++S2-=PbS↓

Na2C03+Ca(OH)2=CaC03↓+2NaOH

Na2C03+Ba(OH)2=BaC03↓+2NaOH

在鍍鎳溶液中，用亞鐵氰化鈉去除銅雜質；用Fe3+去除PO43-雜質及用鉛鹽去除鉻酸根雜質等：

2Cu2++Na4[re(CN)6]=Cu2[Fe(CN)6]↓+4Na+

PO43-+Fe3+=FeP04↓

Cr024一+Pb2-=PbCr04↓

在鍍鉻液中，用Ag2C03去除Cl一及用BaC03去除過量的S02．一：

2HCl+Ag2C03=2AgCl↓+C02↑+H20

H2S04+BaC03=BaS04↓+C02↑+H2O

在氨三乙酸一氯化銨鍍鋅液中，用磷酸鹽去除鐵雜質等：

Fe3++P034一=FeP04↓

沉淀處理時，一般應將鍍液加熱，以加快沉淀反應速度和增大沉淀顆粒，使之易于過濾。

在加入沉淀劑時，若還能與溶液中的主金屬離子生成沉淀的話，那么處理時應強烈攪拌，以促使沉淀劑與雜質作用。沉淀劑加入量不宜太多，以避免主鹽損失較多而增加處理費用。