哈氏槽試驗(yàn)

哈氏槽試驗(yàn)做為研究開發(fā)，電鍍工廠管理、電鍍實(shí)驗(yàn)極有價(jià)值。其主要目的可分，

(1)測(cè)知以理論調(diào)配之鍍?cè)≈婂儗?shí)用范圍。

(2)分析鍍?cè)〗M成，添加劑、雜質(zhì)的變化或影響。

哈氏槽可用于下列之管理：

(1)用化學(xué)分析求不出的成份。

(2)用化學(xué)分析太費(fèi)時(shí)間的成份。

(3)非常微量就會(huì)影響電鍍的成份。

(4)固障的分析及預(yù)測(cè)。

從哈氏槽試片可觀查分析出：

(1)不同電流密度之鍍層變化。

(2)鍍?cè)囟戎绊憽?/p>

(3)鍍?cè)⌒阅艿淖兓?/p>

(4)鍍?cè)〕煞葑兓挠绊憽?/p>

(5)鍍?cè)≈须s質(zhì)的影響。

(6)鍍?cè)≈刑砑觿┑挠绊憽?/p>

(7)鍍?cè)〉母采w力。

(8)鍍?cè)〉木浑娭浴?/p>