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重金屬料中的高純銻

高純銻為以一號銻為原料,經氯化、蒸餾、還原等而制得純度不小于99.999%的銻;再以此為原料,經雙精餾等而制得的純度不小于99.9999%的銻。高純銻供制備III-V族化合物半導體、高純合金、硫化銻、制冷元件和硅、鍺單晶的摻雜劑等。

高純銻的化學成分要求,國家標準(GB10117-88)作了規定,見表1。

表1

牌號Sb-05Sb-06
Sb/%(不小于)99.99999.9999
雜質含量/ppmAg0.050.01
Au0.20.05
Cd1.00.01
Cu0.050.01
Fe0.50.05
Mg0.20.05
Ni0.20.05
-0.50.05
Zn0.50.05
Mn0.050.01
As1.50.3
-0.50.1
Si1.00.1
Bi0.20.02

高純銻呈銀白色。產品表面應清潔。無氧化色斑。產品一般以塊狀或粒狀供貨。需方如有特殊要求時,供需雙方協商解決。

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