高純銻制取(preparationof

highpurityantimony)

從精銻或銻化合物生產高純銻的過程。高純銻通常指純度在99.999％以上的金屬銻。制取方法按照所用原料分為銻化合物制取高純銻和精銻制取高純銻。

銻化合物制取高純銻常采用五氯化銻、三氯化銻和三氧化銻作原料。

五氯化銻制取高純銻五氯化銻用干燥的氯化氫飽和，生成銻氯酸(HSbCl₆•1/2H₂O)。銻氯酸經冷卻結晶后，溶解于少量水中，如此重復數次，便制得純凈的結晶。將純凈的結晶溶于水所得銻氯酸水溶液，用大量水稀釋并加熱至343～353K使其水解成氯氧化銻沉淀。沉淀物經熱水洗滌、脫氯、過濾、烘干后，用氫氣或氰化鉀還原成高純金屬銻。

三氯化銻制取高純銻三氯化銻鹽酸溶液在473～493K下，經一次蒸餾和二次精餾提純，除去砷和重金屬雜質，獲得高純的三氯化銻。再用氫氣在1173K下將高純三氯化銻還原得高純銻，銻的純度不低于99.999％，回收率達95％。

三氧化銻制取高純銻用分析純鹽酸溶解工業純三氧化銻，溶液經精餾提純得到純度大于99.999％的三氯化銻。將純三氯化銻傾入沸騰的經離子交換提純的水中使銻水解，水解產物為白色的氯氧銻沉淀。氯氧銻再用分析純氨水進行脫氯處理，使之轉變為三氧化銻。最后用氫氣還原三氧化銻制取高純銻。

精銻制取高純銻按所用精銻純度分為工業純銻制取高純銻和四九銻制取高純銻。

工業純銻制取高純銻工業純銻一般含銻99.8％～99.9％，常含有少量砷、鉛、鐵、銅、錫、鎳、硫等雜質。常用真空精餾和區域熔煉除去這些雜質。

真空精餾是工業純銻在真空度為133.32～666.61Pa、塔身溫度分別為1123～1173K和873～923K、蒸餾速率為3g/min條件下，經兩次真空精餾得高純銻。

區域熔煉是利用雜質元素在銻液相和固相中具有不同的溶解度而達到凈化目的。雜質元素在銻中分配系數較小，經10～20次區域提純可除去銻中的鐵、鎂、鎵、鉛、銀、銅、硅、鎳、銦、硫、硒、鋁等元素，鉍和砷比較難除去。區域提純開始時加入鋁，使砷轉變成易除去的雜質。區域提純一般在電爐中進行，熔區寬度20～30cm，熔區移速為0.5～4mm/min，由于銻的蒸氣壓大，易揮發，提純要在保護氣氛(氬氣、氮氣或氫氣)中進行。

四九銻制取高純銻將純度為99.99％的金屬銻高gao通過兩次煙化，兩次還原熔煉和堿性精煉脫砷、鉛、鐵，再經真空蒸餾和區域提純可得高純銻。

展望高純銻制取過程復雜，流程長，電解精煉法可使過程縮短。用純三氯化銻和鹽酸、硫酸配成電解液，以高純石墨作陽極，鉑作陰極進行電解，可得高純銻；或用精銻在堿性電解液中進行二段電解精煉，所得的陰極銻經過4～5次區域提純得高純銻。